首先，确保平面研磨机的清洁和适当的调试。在开始抛光前，应清洁研磨盘和研磨机内部，避免污染和交叉污染。同时，调整研磨机的转速、压力和研磨液的流量等参数，以适应待抛光材料的特性和抛光要求。
其次，正确配制纳米氧化铝抛光液。根据纳米氧化铝的粒径、浓度和抛光液的总体积，计算所需纳米氧化铝的用量，并将其加入到适量的溶剂中。搅拌均匀后，可以加入适当的表面活性剂和稳定剂，以提高抛光液的稳定性和抛光效果。
接下来，将配制好的纳米氧化铝抛光液倒入研磨机的抛光盘内。在抛光过程中，要注意控制研磨盘的转速和压力，以及抛光液的流量。适当的转速和压力可以提高抛光效率，而适当的流量可以保证抛光液的均匀性和稳定性。
在抛光过程中，要定期检查抛光效果和抛光液的状态。观察抛光液的色泽、透明度和纳米氧化铝颗粒的分散情况，以确保抛光液的稳定性和抛光效果。如果发现抛光液出现混浊、颗粒聚集等现象，应及时更换或调整抛光液。
最后，抛光完成后，对工件进行清洗和后续处理。将工件从研磨机中取出，用适当的清洗剂清洗，去除表面的残留抛光液和抛光产生的污染物。根据工件的材质和应用要求，可以进行后续的抛光、清洗和干燥等处理。
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